卓力达提供半导体零部件专用阳极氧化服务，拥有 8 条专业产线，包含硫酸阳极、硬质阳极、草酸阳极、混酸阳极四大工艺类型，可加工铝及铝合金半导体配件。通过电化学工艺在工件表面形成致密氧化膜，提升零部件耐腐蚀性、表面硬度、耐电压性能，可根据使用场景定制膜厚、外观与性能，广泛用于半导体设备壳体、支架、腔体配件等。
四大工艺全覆盖
导电氧化、硫酸阳极、硬质阳极、草酸阳极按需选择，膜厚区间 0.12μm~80μm，参数精准可控。
性能指标优异
硬质氧化硬度＞400HV，草酸阳极耐电压超 1000V，硫酸阳极盐雾测试可达 336 小时以上，满足半导体严苛工况。
产线分区作业
针对半导体精密件优化工装，避免工件变形、划伤。
适配后端工序
可结合客户后续清洗、组装工序，匹配整体生产节奏。
01 多线量产
规模化产线配置（8 条阳极氧化专线），可兼顾样品、小批量与大批量订单
02 全项质检
完善的性能检测设备，膜厚、硬度、盐雾、耐电压等指标全检，出具检测报告。
03 工艺定制
熟悉半导体设备使用工况，可根据客户设备制程推荐最优氧化工艺。
04 资质齐全
环保资质齐全，排污、职业健康安全体系合规，长期合作有保障。
为多家半导体设备厂商提供铝合金腔体、支架阳极氧化加工，选用硬质阳极工艺后，工件在高温、腐蚀工况下使用寿命提升一倍，耐电压、耐磨性能完全满足设备运行要求，成为客户定点表面处理供应商。
